기술 사양
| 측정 모드 | 반사율 |
| 측정 시간 | < 10초 (일반) |
| 파장 범위 | VNIR: 400–1,000 nm | SWIR 1: 900–1,700 nm |
| 분광 분해능 | VNIR: 1.34 nm | SWIR: 3.5 nm |
VEpioneer에 관심 있으신가요?
탁상형 장비로 얻는 완벽한 통찰력
The PVA TePla VEpioneer MICRO is a specialized metrology system designed for precise inspection tasks within semiconductor equipment environments.
A PVA TePla metrology unit designed for semiconductor equipment analysis, showing a scanning sensor positioned over a wafer stage.
This PVA TePla system is designed for semiconductor metrology, featuring a glass chamber that houses a wafer for precise inspection.
| 측정 모드 | 반사율 |
| 측정 시간 | < 10초 (일반) |
| 파장 범위 | VNIR: 400–1,000 nm | SWIR 1: 900–1,700 nm |
| 분광 분해능 | VNIR: 1.34 nm | SWIR: 3.5 nm |
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