Systemübersicht

PlaTeG.Nitride

Mono‑Anlage:
• Günstiger Einstieg
• Eine komplette Prozesskammer
• Eine Mittelanode (de-/montierbar)
• Option für Shuttle- und Tandem-Betrieb

Shuttle‑Anlage:
• Bestes Preis‑Leistungs‑Verhältnis
• Bestes Preis‑Leistungs‑Verhältnis
• Integrierter Kammertransfer
• Eine Kammer und zwei Kammerböden
• Option für Tandem-Betrieb

Tandem‑Anlage:
• Hohe Effizienz
• Zwei komplette Prozesskammern
• Zwei Mittelanoden (de-/montierbar)
• 24/7‑Betrieb mit 2 Schichten an 5 Arbeitstagen

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Multiple PulsPlasma® nitride treatment systems aligned in a production facility showing piping and control panels

Technische Daten

Größen	200	280
Pulsstrom‑PP‑Generator [A]	60	60
Max. Chargengewicht [kg]	500	750
Max. nutzbare Abmessungen(ØxH) [mm]	600 x 700	600 x 1.000
Nutzvolumen [l]	200	280
Temperaturbereich [°C]	350 - 600	350 - 600

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Größen	600	700
Pulsstrom‑PP‑Generator [A]	120	120
Max. Chargengewicht [kg]	2.000	2.000
Max. nutzbare Abmessungen(ØxH) [mm]	800 x 1.200	800 x 1.400
Nutzvolumen [l]	600	700
Temperaturbereich [°C]	350 - 600	350 - 600

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Größen	1350	2250	4400
Pulsstrom‑PP‑Generator [A]	200	300	500
Max. Chargengewicht [kg]	3.000	5.000	8.000
Max. nutzbare Abmessungen(ØxH) [mm]	1.000 x 1.700	1.200 x 2.000	1.600 x 2.200
Nutzvolumen [l]	1.350	2.250	4.400
Temperaturbereich [°C]	350 - 600	350 - 600	350 - 600

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