从您的台式设备获取全面洞察

VEpioneer series

完全集成的一键式台式高光谱视觉系统，开箱即用
单次运行即可实现无损、全表面（100%）检测
测量速度快，10 秒内即可完成
层厚检测范围为 1 纳米至 500 微米（取决于层材料）
可对缺陷、污染物及表面特性进行空间分辨识别
兼容多种基材：半导体、金属、聚合物、陶瓷、玻璃等
通过 VEsolve^® pro 软件实现集中控制与评估

VEpioneer Macro

专为宏观检测设计的紧凑型台式系统
支持最大 360 × 360 毫米的样品尺寸
空间分辨率为100–300 µm，并提供高分辨率扫描模式
专用的样品台及多样的定制选项

VEpioneer micro

专为显微检测优化的台式系统
根据显微镜物镜的不同，可实现亚微米级空间分辨率
可处理最大130 × 130毫米的样品
操作灵活：可通过操纵杆手动控制，或通过软件实现全自动操作

VEpioneer Core

全球最小型的全集成高光谱视觉台式系统
超紧凑机身，尺寸仅为 230 × 200 毫米，重量仅 12 公斤
专为最大100 × 100毫米的样品尺寸设计
提供100微米的空间分辨率，是进入高光谱检测领域的理想入门选择

VEpioneer Semi

洁净室兼容版本（ISO 3级），配备集成层流FFU
专为宏观晶圆检测设计，支持200毫米和300毫米晶圆
配备三点式晶圆夹具，确保安全、无污染的操作
空间分辨率从 300 µm 起，并提供高分辨率扫描模式

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Sensor head inspecting a semiconductor wafer with colorful chip structures.

PVA TePla VEpioneer benchtop acoustic microscopy system.

The PVA TePla VEpioneer MICRO metrology system for semiconductor equipment, featuring a microscope head, stage, and control unit on a black base.

The PVA TePla VEpioneer MICRO is a specialized metrology system designed for precise inspection tasks within semiconductor equipment environments.

A white PVA TePla metrology system featuring an internal scanning sensor positioned above a wafer stage for precise semiconductor inspection.

A PVA TePla metrology unit designed for semiconductor equipment analysis, showing a scanning sensor positioned over a wafer stage.

A PVA TePla semiconductor equipment unit for metrology featuring a glass chamber with a wafer inside, isolated against a black background.

This PVA TePla system is designed for semiconductor metrology, featuring a glass chamber that houses a wafer for precise inspection.

技术参数

测量模式	反射率
测量时间	< 10 秒（典型值）
波长范围	VNIR：400–1,000 nm \| SWIR 1：900–1,700 nm
光谱分辨率	VNIR：1.34 nm \| SWIR：3.5 nm

产品手册

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